河北高纯度氮化硅批发

㈢ 高纯度氮化硅提炼对身体有害吗

高纯度氮化硅提炼对身体有害
带有苦味瓜籽的苦瓜不宜食用。一般苦瓜中都含有苦瓜甙，通常无明显毒性。而瓜籽有苦味的苦瓜，其含很多的苦瓜甙，人食后可引起头晕，腹痛等中毒症状。

未煮熟的秋扁豆不宜食用。扁豆中含有两种毒素：一为扁豆中的凝集素；另一种为豆类中的溶血素。秋季成熟的扁豆含量极高。如果未充分煮熟，食用后往往会发生头痛，头晕，恶心，呕吐，腹泻等症状。故煮扁豆，应彻底加热煮熟煮烂。

腌制不透的酸菜不宜食用。有的家庭在腌制酸菜时，往往用盐不足，使得一部分细菌没有得到抑制，使菜中的硝酸盐还原成有害的亚硝酸盐，这种化学变化大约在腌制后一星期左右达到最高峰。如果此时食用，非常不安全，可以发生急性亚硝酸盐中毒。

㈣ 氮化硅是一种高温陶瓷材料，它硬度大、熔点高，化学性质稳定，工业上普遍采用高纯硅与纯氮在1 300 ℃反应

（1）氮化硅是一种高温陶瓷材料，它的硬度大、熔点高，故属于原子晶体，
故答案为：原子；
（2）氮化硅的晶体结构中，原子间都以单键相连，且n原子和n原子、si原子和si原子不直接相连，同时每个原子都满足8电子稳定结构，故n的化合价为-3价，硅的化合价为+4价，故氮化硅的化学式为：si3n4，
故答案为：si3n4；
（3）四氯化硅和氮气在氢气保护下加强热反应，可得到较高纯度的氮化硅，方程式为：3sicl4+2n2+6h2
△
.

si3n4+12hcl；
故答案为：3sicl4+2n2+6h2
△
.

si3n4+12hcl．

㈤ 哪些企业使用氮化硅粉体要求纯度不高

哪些企业使用氮化硅粉体要求纯度不高
1、主体性原则。以课堂教学为主阵地，转变教师自身理念，充分认识“以学促教，以教促学”的意义，认识学生学习的“主体”。
2、科学性原则。以我县各校学生实际开展研究，始终遵循课题科学化管理，课题组成员精诚团结，充分发挥自身优势，积极承担子课题研究。
3、实践操作原则。各校教研组积极开展“同课异教”“一课多讲”等各种类型的公开课、观摩课、示范课，进行有效教学实践研究，并及时总结，不断改进。
4、适时性原则。各校课题负责人及时向课题总负责人反映课题研究情况，每月组织召开一次课题组成员会，总结阶段成果。
5、广泛性原则。该课题的最终目的就是要改变教师被动教和学生被动学的现状，以成就和谐、高效的课堂教学，大面积提高我县初中化学教学质量。经实践证明后，可将好的经验向全市范围内中学推广。
6、评价激励原则。在课题阶段研究中，定期开展优秀教学设计、优质课评比并给予表彰奖励，并将选出的优秀课例、论文等向市、区教研部们推荐，力争高质量的完成该课题研究。

㈥ 四氯化硅和氮气在氢气氛围下加强热反应可得较高纯度的氮化硅 反应方程是什么

SICL4+2N2+2H2=SI3N4+4HCL

㈦ 氮化硅的制备

2.1.1 硅粉直接氮化法
主要是指纯净硅粉在N2、N2+H2或NH3的还原性气氛中发生反应，生成氮化硅微粉[8-10]。根据反应温度的差异，反应方程式如下:
（2.1）
此法在较低温度下得到的是α-Si3N4和β-Si3N4的混合物，高温下得到的只有β-Si3N4。该法对硅粉粒径的要求比较高，而且反应温度比较高，对反应设备的耐高温耐高压性能提出了要求。因此，硅粉直接氮化法质量的进一步提高主要取决于碾磨机性能的提高和单质硅性质的改善。而由此方法发展起来的自蔓延高温合成 (Self-propagating High- temperature Synthesis，SHs)为硅粉直接氮化法开辟了一条新的思路。
2.1.2 碳热还原法
碳热还原法是指SiO2和C的粉末在高温下的N2气氛中发生氮化和还原反应，生成Si3N4微粉[11-13]。反应方程式如下：
（2.2）
虽然目一前人们对此反应的机理还没有探索清楚，但可以确定的是反应中生成了SiO2并由SiO2参与气相反应。产物的组成主要受C/SiO2比、起始物料的结构特征(细颗粒，低的粒径分布和晶型)、反应气相的组成和反应温度的控制。可以通过控制CO气流量来达到控制产物生成的速率。这种方法的一个很大的优点就是利用了自然界中十分丰富的二氧化硅为原料，特别适宜于大规模生产氮化硅微粉，且反应产物经热处理后为疏松粉末，粉体形状规则，粒径分布窄，无需再进行粉碎处理，从而避免了杂质的再次引入;缺点是杂质含量特别是碳的含量比较高，而且以氮气作为反应物反应速度比较慢，而在氨气气氛中合成反应要比氮气气氛中快得多。
2.1.3 卤化硅氨解法
硅的卤化物(SIC14、SIBr4等)或硅的氢卤化物(SiHCl3、SiHZCl2、SiH3I等)与氨气或者氮气发生化学气相反应曰，生成氮化硅[14,15]，其反应式为:
（2.3）
因为反应物是卤化硅和氨气，又在气相中反应，所以通常可以制得高纯的α氮化硅或无定形氮化硅粉末。或者在低温下先由硅的卤化物或氢卤化物生成硅亚胺，再由硅亚胺加热分解得到氮化硅，化学反应方程式为:
（2.4）
此反应的关键是要制得纯的硅亚胺，通过硅亚胺的热分解可以直接制得很纯的α-Si3N4粉末;反应速度、也比较快，至今已开始应用于生产非晶氮化硅薄膜。如果作为合成氮化硅微晶的方法，此路径相对比较长，且需要低温条件。日本UBE公司早在1992年就建成了年产300 t的生产线，这是当时世界上规模最大的氮化硅生产线。谢毅等创造性地将其发展为SiCl4与NaNH2、NH4Cl在苯溶剂中的反应，生成了纯的β-Si3N4纳米棒，此反应的温度可以达到很低(450 ℃)。唐凯斌等670 ℃时以NaN和SiCl4为原料合成了α-Si3N4纳米晶;邹贵付等以Mg3N2和SiCl4为原料600 ℃合成了α-Si3N4纳米线。
2.1.4 前躯体方法
制备前驱体法是指先由氮源和硅源先反应生成一种比较容易分解的前驱体，再由前驱体在比较温和的条件下分解产生氮化硅微粉(Preparation of Precursor)。此前驱体一般为聚合物，如聚硼硅氮烷前驱体、聚钦硅氮烷前驱体或由三甲基硅氮烷与三甲基硅氧烷制备得到的前驱体。此法最早由Seyferth与其合作者用SiH2Cl2和NH3反应，得到前驱体，再由前驱体在1150 ℃下和氮气气氛中分解得到了a-Si3N4粉末，产物含硅杂质，产率到达了70%。徐世峰等人以聚硼硅氮烷([NHSi(CH3)(C2H4)]3B)n初始反应物、以FeCl2为催化剂，通过三步反应，得到氮化硅一维结构。这种方法可以通过在原子尺度上调整聚合物前驱体的成分从而控制和改变产物的组分，是一种简单的获得高纯氮化硅或掺杂氮化硅的方法[16]。古云乐等人在低温下，用NH4Cl与硅合金Mg2Si反应，得到了α-Si3N4纳米微粒。此方法的到的α-Si3N4产率高达93%，且Si:N达到了0.756。可能的反应式如下:
（2.5）
T. E. Warne用硅铁合金，在1370 ℃用铝塔锅盛放硅铁合金粉末，在氨气气氛中反应24 h，得到了很纯的β-Si3N4纤维。M. V. Vlasova等也在900-1500 ℃用硅含量很高的硅铁合金得到了氮化硅粉末，并探讨了形成机理。此方法给我们提供了一种启示，可以作为一种经济的合成路线而加以研究和推广。

㈧ 现在全国生产氮化硅的厂家有多少

现在国内陶瓷级和光伏级最大的厂家是烟台同立高科，耐火级和填料级河北，河南和宁夏都有规模较大的企业